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沉銅與鍍銅的區(qū)別

發(fā)布時間:2024-10-25

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沉銅和鍍銅是電路板制造過程中的兩種不同的工藝,它們主要有以下區(qū)別:


一、原理方面


  • 沉銅

    • 沉銅又稱化學(xué)鍍銅,是一種自身催化氧化還原反應(yīng)。它是在沒有外加電流的情況下,利用溶液中的還原劑(如甲醛、次磷酸鈉等)將銅離子還原成金屬銅,沉積在非導(dǎo)電的基體表面。這個過程主要是基于化學(xué)反應(yīng),使銅在有催化活性的表面上持續(xù)生長。例如,在印制電路板(PCB)制造中,首先需要對絕緣的環(huán)氧樹脂等基材進(jìn)行預(yù)處理,使其表面吸附一層催化劑(如鈀),在含有銅離子的化學(xué)鍍銅液中,還原劑與銅離子在鈀的催化下發(fā)生反應(yīng),銅離子得到電子被還原成銅原子,沉積在基材表面,從而使原本不導(dǎo)電的基材表面具有導(dǎo)電性。

  • 鍍銅

    • 鍍銅是一種電解過程,需要外加電源。在電鍍槽中,將待鍍的工件作為陰極,純銅作為陽極,含有銅離子的電解液(如硫酸銅溶液)在直流電的作用下,陽極的銅失去電子變成銅離子進(jìn)入溶液,陰極上的銅離子得到電子被還原成銅原子,沉積在工件表面。以裝飾性鍍銅為例,在金屬制品表面鍍銅時,接通電源后,陽極的銅不斷溶解,電解液中的銅離子向陰極移動,在陰極表面逐漸堆積形成銅鍍層。


二、工藝目的


  • 沉銅

    • 主要目的是使非導(dǎo)電的基材(如 PCB 中的環(huán)氧樹脂、玻璃纖維等)表面金屬化,為后續(xù)的電鍍提供導(dǎo)電層。因?yàn)樵陔娐钒逯圃熘校S多線路和孔需要導(dǎo)電才能進(jìn)行進(jìn)一步的加工,沉銅能夠確保這些原本不導(dǎo)電的部分能夠?qū)щ?,?shí)現(xiàn)電氣連接。

  • 鍍銅

    • 一是為了加厚銅層,滿足產(chǎn)品對銅層厚度的要求。例如,在 PCB 制造中,對于一些需要通過大電流的線路部分,需要較厚的銅層來降低電阻,防止線路過熱。二是為了提高產(chǎn)品的耐腐蝕性、耐磨性等表面性能。如在一些五金制品表面鍍銅,可以增加產(chǎn)品的美觀度,同時提高其抗腐蝕能力。


三、銅層特性


  • 沉銅

    • 沉銅層的厚度相對較薄,一般在 0.1 - 0.5μm 左右。因?yàn)槠涫峭ㄟ^化學(xué)還原反應(yīng)沉積的,生長速度相對較慢,并且如果沉積時間過長,可能會導(dǎo)致銅層質(zhì)量下降,如出現(xiàn)粗糙、疏松等問題。沉銅層與基材的結(jié)合力主要依靠化學(xué)吸附和化學(xué)鍵合,對于經(jīng)過良好預(yù)處理的基材,結(jié)合力較好。

  • 鍍銅

    • 鍍銅層的厚度可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行控制,范圍較寬,從幾微米到幾百微米都可以。由于是在電場作用下沉積的,其沉積速度相對較快。鍍銅層與基體的結(jié)合力主要取決于基體的表面狀態(tài)和電鍍工藝參數(shù),在合適的條件下,結(jié)合力也能夠滿足要求。同時,鍍銅層的致密性較好,結(jié)構(gòu)相對均勻,能夠提供更好的導(dǎo)電性和耐腐蝕性。


四、應(yīng)用場景


  • 沉銅

    • 在 PCB 制造行業(yè)應(yīng)用廣泛,特別是在多層電路板的內(nèi)層線路制作過程中。當(dāng)需要在絕緣的內(nèi)層材料之間形成電氣連接時,首先通過沉銅使孔壁金屬化,從而實(shí)現(xiàn)各層線路之間的導(dǎo)通。此外,在一些需要在非金屬表面進(jìn)行金屬化處理的特殊材料加工中,沉銅也是一種重要的手段。

  • 鍍銅

    • 同樣在 PCB 制造中大量使用,用于加厚線路銅層和表面鍍銅。還廣泛應(yīng)用于五金制品、汽車零部件、電子元器件等眾多行業(yè),用于裝飾、防護(hù)和功能改善等目的。例如,汽車的一些金屬配件鍍銅后可以提高其耐腐蝕性和美觀度,電子元器件的引腳鍍銅可以增強(qiáng)導(dǎo)電性和焊接性能。